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2024-11
清洗單晶硅用的純水對水質(zhì)的要求

清洗單晶硅用的純水對水質(zhì)的要求

清洗單晶硅用的純水對水質(zhì)的要求極為嚴(yán)格,具體體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面: 1. 高純度:清洗單晶硅的純水中不能含有任何形式的雜質(zhì),包括溶解性鹽類、有機(jī)物、微生物以及顆粒物等。這些雜質(zhì)都可能對單晶硅的表面造成
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2024-11
紡織印染加工廠用的純水設(shè)備

紡織印染加工廠用的純水設(shè)備

紡織印染加工廠用的純水設(shè)備是確保生產(chǎn)過程水質(zhì)純凈、滿足印染工藝需求的關(guān)鍵設(shè)備。這些設(shè)備通常具有高精度、高效率、穩(wěn)定可靠等特點(diǎn),能夠有效地去除水中的雜質(zhì)、離子、微生物等,為紡織印染加工提供高質(zhì)量的水源。以下是
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2024-11
用于清洗OLED面板用的超純水設(shè)備

用于清洗OLED面板用的超純水設(shè)備

用于清洗OLED面板的超純水設(shè)備是一種專門設(shè)計(jì)用于制取高純度水的設(shè)備,其出水水質(zhì)需滿足OLED面板清洗的高標(biāo)準(zhǔn)需求。以下是關(guān)于這種超純水設(shè)備的詳細(xì)介紹: 一、設(shè)備概述 超純水設(shè)備通過一系列精密的處理工藝,將水中的雜質(zhì)、離子、微生物等去除至極低水平,從而
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2024-11
工業(yè)純水設(shè)備的價(jià)格主要看這幾點(diǎn)因素

工業(yè)純水設(shè)備的價(jià)格主要看這幾點(diǎn)因素

工業(yè)純水設(shè)備的價(jià)格受多種因素影響,以下是主要因素的分析: 一、設(shè)備規(guī)模與產(chǎn)量 設(shè)備大?。焊鶕?jù)企業(yè)每小時(shí)對于純水的用水量,設(shè)備可分為實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、小型純水設(shè)備、中型以及大型的水處理設(shè)備。設(shè)備的規(guī)模越大,處理能力越強(qiáng),通常價(jià)格也越
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2024-11
一套工業(yè)用的去離子水設(shè)備需要多少錢

一套工業(yè)用的去離子水設(shè)備需要多少錢

一套工業(yè)用的去離子水設(shè)備的價(jià)格因多種因素而異,包括設(shè)備的規(guī)模(如處理能力)、技術(shù)配置、品牌、材質(zhì)以及售后服務(wù)等。以下是根據(jù)當(dāng)前市場情況,提供的一些價(jià)格范圍和影響因素的分析: 一、價(jià)格范圍, 工業(yè)用去離子水設(shè)備的價(jià)格可以從幾千元到幾十萬元不等。具體來說:
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2024-11
工業(yè)純水超濾設(shè)備

工業(yè)純水超濾設(shè)備

工業(yè)純水超濾設(shè)備是水處理領(lǐng)域中的重要設(shè)備,它主要用于制備工業(yè)生產(chǎn)所需的純水。以下是對該設(shè)備的詳細(xì)介紹: 一、設(shè)備原理 工業(yè)純水超濾設(shè)備主要以壓力為推動力,利用超濾膜不同孔徑對液體進(jìn)行分離的物理篩分過程。
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2024-11
電子工業(yè)用的純水是用哪一種水處理設(shè)備制取的?

電子工業(yè)用的純水是用哪一種水處理設(shè)備制取的?

電子工業(yè)用的純水通常是通過以下幾種水處理設(shè)備制取的: 一、主要設(shè)備系統(tǒng) 1. 預(yù)處理系統(tǒng):預(yù)處理系統(tǒng)通常由多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、鈉離子軟化器、精密過濾器等組成,用于去除原水中的懸浮物、有機(jī)物
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08
2024-11
芯片制造用的超純水設(shè)備

芯片制造用的超純水設(shè)備

芯片制造用的超純水設(shè)備是確保芯片生產(chǎn)過程中水質(zhì)純凈度至關(guān)重要的設(shè)備。以下是關(guān)于芯片制造用超純水設(shè)備的詳細(xì)介紹: 一、設(shè)備概述 超純水設(shè)備是采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除...
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